聚焦環(huán)保添加劑的全球化戰(zhàn)略
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XCD-988產(chǎn)品是本公司研發(fā)先進(jìn)配方,選用了最新環(huán)保添加劑,完全取代傳統(tǒng)金屬離子作為鍍液光亮添加劑,使鍍層更加柔軟、孔隙率更低、光亮性和速度一致性更好，具有高度忍受金屬雜質(zhì)的性能，適合于鋼、鐵、銅、等金屬化學(xué)鍍鎳，鍍層均一，物理性能及化學(xué)特優(yōu)良，并具有優(yōu)異有防腐性能與磨性。
技術(shù)參數(shù)成份表：
一．鍍層的物性與特點(diǎn)：
磷含量：5.0—9.0%
鍍液穩(wěn)定性好,使用壽命最長(zhǎng)可達(dá)8—10個(gè)周期
沉積速度快,可達(dá)到15-20微米/1小時(shí)
硬度: 400—500V、H、N
熱處理<400℃小時(shí)后,700--800 V、H、N
鍍層密度: 7.8-8.0/ cm3
熔點(diǎn)窄，適于焊接：
熔點(diǎn)：870-920℃
電流阻力：約40-70UΩcm/cm2
磁力特性：非磁性
膨漲系數(shù)：12-14UM/M/℃
工作裝載量：1-2d㎡/L
二．鍍液狀態(tài)及手用途：
ACTAGIN XCD-988A
鎳來(lái)源添加用。綠色
ACTAGIN XCD-988 B
還原劑開(kāi)缸用：無(wú)色
ACTAGIN XCD-988C
絡(luò)合劑、穩(wěn)定添加用：無(wú)色
三、鍍液的配制及操作方法:
開(kāi)缸:
先把底槽注入50%容量之純凈或蒸餾水,注入15%鍍槽容量之XCD-988B,再注入5%鍍槽容液XCD-988A,然后攪拌及加純凈水或蒸餾水至預(yù)定水位檢查PH值是否在指定范圍4.5-4.8之間,調(diào)底PH值可比用20%純硫酸,調(diào)高PH值,則須加入25%純氨水.最后加溫至指定溫度操作.
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條件 |
范圍 |
最佳值 |
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PH值 |
4.5-4.8 |
4.6 |
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NI |
4.5-6.0 |
5.5 |
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P |
20-60 |
28 |
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溫度 |
88℃-92℃ |
90℃ |
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攪拌 |
輕微的機(jī)械式或空氣攪拌均可 |
四、設(shè)備：
1．槽的材料最適宜用PP板材,配備雙槽,一為生產(chǎn)用,另一為備用槽.更換下來(lái)的槽加熱設(shè)備及過(guò)濾設(shè)備必須用30-40%硝酸浸洗6-10個(gè)小時(shí)后,用清水徹底清洗,最后用含有少量氫氧化鈉的純水沖洗.
過(guò)濾:
2.鍍液過(guò)濾最好用連續(xù)過(guò)濾,過(guò)濾泵為耐高溫、耐酸堿設(shè)計(jì),可選用5-10微米濾芯.或?yàn)V袋均可,理想流量為每小時(shí)能過(guò)濾鍍液10次.
五、鍍液的補(bǔ)充與維護(hù):
XCD-988A與XCD-988C的補(bǔ)充比例為1比1
在生產(chǎn)過(guò)程中須對(duì)鎳含量經(jīng)常進(jìn)行人分析,金屬鎳必須保持在4.5-6.0
g/L范圍內(nèi)，每缺少1克鎳需要補(bǔ)充10ML的988A與10ML的988C，在正常操作下，鎳的補(bǔ)充量不可超過(guò)15%。添加次序?yàn)椋合劝?88A的必要量，分次加入鍍槽并充分?jǐn)嚢韬螅侔严鄳?yīng)量的988C分次加入并充分?jǐn)嚢?，接著把PH值凋整至工作狀態(tài)。如不慎濃度太低時(shí)，宜分多次逐漸補(bǔ)充至正常濃度，消耗補(bǔ)充量建議頻率小量添加，可使層物性及沉效率維持標(biāo)準(zhǔn)
六．分析方法：
鎳離子濃度的分析：
滴定液配制：0.05M的EDTA液的配制:稱取18.6克的乙二胺四乙酸
二鈉完全溶解并定容成1000ml:
指示劑的配制：稱取100克氯化鈉和0.2克的紫脲酸銨在研體中研磨均勻.
分析步驟:
1. 用移液管移取5ML鍍液放入錐瓶中.
2. 取純凈水100ML放入錐瓶中.
3. 加入10ML純氨水,放入錐瓶中,搖勻.
4. 然后加入紫脲酸銨指示劑0.2g放入錐瓶中。搖勻。
5. 用0.052EDTA滴定，溶液顏色由橙黃色變?yōu)樽仙珵榻K點(diǎn)。
NI含量<gL>=滴定毫升數(shù)×0.587：
次磷酸鈉含量的分析:
所需試劑：
50%的鹽酸
IN碘溶液
IN硫代硫酸鈉溶液
1%淀粉溶液
分析步驟：
1.讓溶液冷卻至室溫。
2.將5ml鍍液加到250ml碘量瓶中.
3.加25ml鹽酸（1:1）.
4.加50ml碘溶液.
5.蓋上碘量瓶,將溶液置于暗處存放30min.
6.滴定前.用去離子水沖洗瓶塞 .
7.用0.1N硫代硫酸鈉溶液滴定至顏色時(shí)加入1～2 ml淀粉指示劑，繼續(xù)滴定至顏色褪盡為終點(diǎn)。
計(jì)算公式：
次磷酸鈉含量（g/l）=[0.1N碘溶液量（ml）- 所用0.lN硫代硫酸鈉溶液量（ml）×1.06
七、包裝 /有效期
1．蘭色純PP塑膠桶：25L/桶。
2．（密封保存）XCD-988A有效期為18個(gè)月，EN-988B和EN-988C有效期為12個(gè)月。
八、貯藏
1．XCD-988組分A組分B和組分C必須直立置，裝在密封容器內(nèi)。貯存環(huán)境溫度為5～38的干燥場(chǎng)所。
2．XCD-988組分B和組分C應(yīng)遠(yuǎn)離強(qiáng)氧化劑。
3．避光貯存。
4．遠(yuǎn)離熱源和火源。
5．不使用時(shí)，應(yīng)密封容器。
九、安全事項(xiàng)
1．不能吞食XCD-988濃縮液。
2．勿濺到眼睛、皮膚和衣物。
3．在處理和使用鍍液時(shí)，穿戴好化學(xué)防護(hù)眼鏡、防酸堿手套和工作服。
4．在工作容器上建議安裝排氣裝置。
5．直接加熱鍍液，要注意正確的鍍液液面位置，以防止過(guò)熱引起自發(fā)分解。
6．組份A組份B和組份C都是弱酸性溶液，切勿將鍍液滴在水泥地面上，以免腐蝕地面！
化學(xué)鍍鎳故障的排除方法
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問(wèn)題 |
原 因 |
對(duì) 策 |
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鍍 液 分 解 |
1.鍍液溫度太高 2.PH值過(guò)高引起沉積 3.局部過(guò)熱 4.槽壁或設(shè)備內(nèi)壁被鍍上化學(xué)鎳層 5.催化劑帶入污染 6.在操作溫度下,一次補(bǔ)充添加太大 7.剝高的鍍層碎片 8.鍍?cè)≈新淙胛廴疚?灰塵 9.穩(wěn)定劑帶出損失 |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,降溫至正常操作范圍 2.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用10%H2SO4調(diào)整PH值至正常值 3.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,使用加熱速度較慢的加熱器等防過(guò)熱 4.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用1:1硝酸清洗\鈍化設(shè)備內(nèi)壁 5.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，加強(qiáng)鍍前清洗 6.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，在攪拌下少量多次地補(bǔ)充添加 7.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，清理掛具 8.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，改善車間清潔度 9.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，適當(dāng)添加少量穩(wěn)定 |
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鍍 層 結(jié) 合 強(qiáng) 度 差 或 起 泡 |
1.表面處理不當(dāng) 2.前處理清洗不夠 3.鋁件鋅酸鹽化不當(dāng) 4.金屬離子污染 5.有機(jī)物質(zhì)污染 6.工件鍍前生銹 7.熱處理不當(dāng) |
1．改進(jìn)除油、酸洗工序 2．改進(jìn)清洗工序 3．分析浸鋅溶液，改進(jìn)浸鋅工藝 4．大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 5．用活性炭處理鍍?cè)? 6．縮短工件轉(zhuǎn)移時(shí)間 7．按規(guī)范進(jìn)行熱處理 |
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鍍 層 粗 糙
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1.鍍?cè)≈袘腋〔辉∥? 2.鍍前清洗不夠 3.PH值過(guò)高 4.鍍槽或?yàn)V芯污染 5.絡(luò)合劑濃度偏低 6.工藝用水污染 7.工作殘留磁性 |
1．轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，檢查濾芯，找出微粒污染源 2．改進(jìn)清洗工藝 3．轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，用10%H2SO4調(diào)整PH值至正常值 4．轉(zhuǎn)槽過(guò)濾，清洗鍍槽或更換濾芯 5．減少帶出損失，檢查補(bǔ)充調(diào)整量 6．使用合格的去離子水 7．鍍前應(yīng)作消磁處理 |
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鍍 層 針 孔
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1.鍍?cè)≈袘腋〔辉∥? 2. 槽負(fù)載過(guò)大 3.有機(jī)物污染 4.金屬離子污染 5.攪拌不充分 |
1. 轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,檢查濾芯,找出微粒污染源 2. 減少裝栽量 3.用活性炭處理鍍?cè)? 4.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 5.改進(jìn)攪拌方式,選用工件攪拌 |
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漏 鍍 |
1.金屬離子污染 2.基體金屬影響(如含鉛合金) 3.鍍?cè)∵^(guò)穩(wěn)定(金屬離子穩(wěn)定劑) |
1.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 2.鍍前預(yù)閃鍍銅閃鍍鎳 3.大面積假鍍除去或者更換部分鍍液 |
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鍍 層 花 斑 和 氣 帶 |
1.攪拌不充分 2.表面預(yù)處理不當(dāng) 3.金屬離子污染 4.工件表面殘留物 5.“彗尾”,氣帶 |
1.改進(jìn)攪拌強(qiáng)度或方式 2.改進(jìn)前處理工序,加強(qiáng)清洗 3.大面積假鍍除去或者更換部分鍍液 4.改進(jìn)鍍前清洗工序,使用不含硅酸鹽的清洗劑 5.重新安排槽內(nèi)工件吊掛位置, 改進(jìn)攪拌方式 |
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鍍 層 晦 暗 失 光 |
1.鍍后清洗水污染 2.表面前處理不當(dāng) 3.鍍液PH值,溫度太低 4.還原劑濃度太低 5.鎳離子濃度太低 6有機(jī)物污染 7.金屬離子污染 8.光亮劑帶出損失 |
1. 1.改進(jìn)鍍后清洗水質(zhì):如有可能末道清洗用去離子水 2. 2.改進(jìn)除油,酸洗工序,加強(qiáng)清洗工序 3. 3.用稀NaOH(或NH4OH)調(diào)整.升溫至正常范圍 4. 4.分析鍍?cè)?補(bǔ)充還原劑至正常濃度 5. 5.分析鍍?cè)?補(bǔ)充鎳離子至正常濃度 6. 6.用活性炭處理鍍?cè)? 7. 7.大面積假鍍除去雜質(zhì),或更換部分鍍液 8. 8.適量補(bǔ)充光亮劑 |
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無(wú) 鍍 速 |
1.穩(wěn)定劑濃度過(guò)高 2.表面未活化 3.基體催化性 4.鍍?cè)H值,溫度太低 5.金屬離子污染 |
1.更換部分鍍?cè)? 2.改進(jìn)鍍前酸洗,活化方式 3.鍍前表面催化處理,閃鍍鎳,浸膠鈀等 4.用稀NaOH(或NH4OH) 調(diào)整PH至正常范圍 5.大面積假鍍除去雜物,或更換部分鍍?cè)? |
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鍍 現(xiàn) 浴 絮 中 狀 出 物 |
1.鍍?cè)H值過(guò)高 2.鍍?cè)≈薪j(luò)合劑濃度太低 3.補(bǔ)充添加速度太快 4.鍍?cè)±匣? |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用10%H2SO4,凋整PH值至正常 2.添加適量絡(luò)合劑 3.在攪拌下少量多次地補(bǔ)充添加 4.更換部分鍍?cè)』驈U棄鍍?cè)? |
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鍍 值 浴 變 PH 快 |
1.前處理溶液帶入污染 2.槽負(fù)載過(guò)大 3.鍍?cè)H值越出緩沖范圍 |
1.改進(jìn)鍍前清洗工序 2.減少裝載量 3.檢查、調(diào)整PH至最佳操作范圍之內(nèi) |
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鍍 子 浴 消 鎳 耗 離 快 |
1.槽壁或設(shè)備上鍍上化學(xué)鎳層 2. 槽負(fù)載過(guò)大 3.鍍?cè)С鰮p失太大 4.鍍?cè)》纸? |
1.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾,用1:1硝酸清洗,鈍化槽壁或設(shè)備 2.減少裝載量 3.改進(jìn)工件出槽速度,滴盡鍍液.然后轉(zhuǎn)移清洗 4.轉(zhuǎn)槽過(guò)濾.分析調(diào)整鍍液或廢棄鍍?cè)? |
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鍍 速 低 |
1.鍍?cè)囟绕? 2.鍍?cè)H值偏低 3.鎳離子或還原劑濃度偏低 4.金屬離子穩(wěn)定濃度太高 5.鍍液老化 |
1.升高溫度至正常范圍 2.用稀NaOH(或NH4OH)調(diào)整,升溫至正常范圍 3.分析鍍?cè)?分別補(bǔ)充調(diào)整鎳離子或還原劑濃度至正常 4.大面積假鍍除去雜質(zhì)或更換部分鍍液 5.更換部分鍍?cè)? |
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